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NTHC200吸附阱
NTHC200 Gas Trap为通过改变粉体的物理状态,形成粉体捕集粉体。
拦截粉尘,避免工艺运行过程中泵异常卡死
延长干泵运行寿命ü防止回流污染主工艺腔室
降低工艺设备宕机率,提高客户产能
加热套、管道涂层成本最小化
防止排气堵塞
主要应用行业:Semi、FPD、Solar、LED
主要应用工艺:
Tin-CVD, Metal-etch, ALD, SIN
,
BPSG, Nitride, W-CVD
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