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当前位置：威尼斯app平台 ＞ NTHC200吸附阱
NTHC200
NTHC200 Gas Trap为通过改变粉体的物理状态，形成粉体捕集粉体。

  • 拦截粉尘，避免工艺运行过程中泵异常卡死
  • 延长干泵运行寿命ü防止回流污染主工艺腔室
  • 降低工艺设备宕机率，提高客户产能
  • 加热套、管道涂层成本最小化
  • 防止排气堵塞
  • 主要应用行业：Semi、FPD、Solar、LED
  • 主要应用工艺：Tin-CVD, Metal-etch, ALD, SIN, BPSG, Nitride, W-CVD